Change search
CiteExportLink to record
Permanent link

Direct link
Cite
Citation style
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • Other style
More styles
Language
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Other locale
More languages
Output format
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Omega System Kalibrering: Strål X-Separation mätning och kalibrering
KTH, School of Industrial Engineering and Management (ITM), Machine Design (Dept.).
2006 (Swedish)Independent thesis Advanced level (degree of Master (Two Years)), 20 credits / 30 HE creditsStudent thesisAlternative title
Omega System Calibration: Beam X-Separation measurement and calibration (English)
Abstract [en]

Micronic Laser Systems AB produces and develops machines for the photo mask production market. One of their products is the Omega machine which exposes photo masks using 5 laser beams simultaneously. It is important that the distance between the each laser beam, the x-separation, is the same. The x-separation is today measured by exposing a photo mask with a certain pattern and thereafter measured with a metrology system. This takes to much time and it is desired to find a faster method to measure the x-separation without loosing precision.

The task for this master thesis is to improve an existing measurement method which uses a calibration mask. This method is very fast but the results are too noisy. The goal is to reduce the noise to 5nm which gives the same result as measurements on a photo mask. In order to achieve this, a new pattern has to be designed on the calibration mask and the software for the measurement has to be adapted to the new pattern and for measurements using 5 beams simultaneously. A concept for automatic adjustment of the x-separation should also be developed.

The results are a new calibration mask pattern that is thinner, higher and inverted and a new measurement algorithm that handles measurements with several beams active at the same time. With the new measurement algorithm the measurements have a 3

σ of 6nm. Comparison with results from measurements on an exposed photo mask shows that there is a difference of about ±15nm in nominal focus between the two methods. The lens that controls the x-separation is mounted on a linear motor that automatically adjusts the x-separation.

Abstract [sv]

Micronic Laser Systems AB producerar och utvecklar maskiner för fotomasktillverkning. En av deras produkter är Omegan och den exponerar fotomasker med 5 laserstrålar simultant. Det är viktigt att avståndet mellan laserstrålarna, x-separationen, är densamma mellan alla strålar. När man mäter x-separationen idag exponerar man en fotomask med ett speciellt mönster och mäter upp resultatet i en mätmaskin. Det tar för lång tid och man vill därför hitta ett snabbare sätt att mäta upp x-separationen utan att förlora precision.

Examensarbetet går ut på att förbättra en annan mätmetod vilken använder en kalibreringsmask. Denna mätmetod är väldigt snabb men ger idag för brusiga resultat. Målet för examensarbetet är att få ner bruset till 5nm och därigenom ge samma resultat som mätning på en fotomask. För att lyckas med detta måste ett nytt mönster på kalibreringsmasken designas och mjukvaran för mätningarna anpassas till det nya mönstret samt möjliggöra mätningar med 5 laserstrålar samtidigt. Ett koncept för automatisk justering av x-separationen ska också utvecklas.

Resultaten är ett nytt mönster på kalibreringsmasken som är tunnare, högre och inverterat samt en ny mätalgoritm som klarar av att mäta med flera laserstrålar aktiva samtidigt. Med den nya mätalgoritmen får mätningarna ett 3

σ på 6nm. Resultat från mätningar på en fotomask och den nya mätalgoritmen skiljer sig åt med ±15nm i nominellt fokus. Linsen som kontrollerar x-separationen monteras på en linjärmotor för att automatiskt kunna ställa in x-separationen.

Place, publisher, year, edition, pages
2006.
Series
MMK 2006:27 MDA279
National Category
Engineering and Technology
Identifiers
URN: urn:nbn:se:kth:diva-101202OAI: oai:DiVA.org:kth-101202DiVA: diva2:546754
External cooperation
Micronic Laser Systems AB,Thorbjörn Åklint
Uppsok
Technology
Supervisors
Examiners
Available from: 2012-08-24 Created: 2012-08-24 Last updated: 2012-08-24Bibliographically approved

Open Access in DiVA

Joakim Fernstad(778 kB)288 downloads
File information
File name FULLTEXT01.pdfFile size 778 kBChecksum SHA-512
2ac9e2ad33ae8b0ccab76b5eaa4bf9d406f935c17322b57564e18d37703df26a361626e811e0f3dcde6a69cec1776c48e658f56be42d7b86a19416855bb08e7b
Type fulltextMimetype application/pdf

By organisation
Machine Design (Dept.)
Engineering and Technology

Search outside of DiVA

GoogleGoogle Scholar
Total: 288 downloads
The number of downloads is the sum of all downloads of full texts. It may include eg previous versions that are now no longer available

urn-nbn

Altmetric score

urn-nbn
Total: 69 hits
CiteExportLink to record
Permanent link

Direct link
Cite
Citation style
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • Other style
More styles
Language
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Other locale
More languages
Output format
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf