Ändra sökning
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
High power impulse magnetron sputtering discharge
University of Michigan.
KTH.
Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.
Linköpings universitet, Institutionen för fysik, kemi och biologi, Plasma och beläggningsfysik. Linköpings universitet, Tekniska högskolan.ORCID-id: 0000-0002-1744-7322
2012 (Engelska)Ingår i: Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films, ISSN 0734-2101, E-ISSN 1520-8559, Vol. 30, nr 030801Artikel, forskningsöversikt (Refereegranskat) Published
Abstract [en]

The high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) discharge is a recent addition to plasma based sputtering technology. In HiPIMS, high power is applied to the magnetron target in unipolar pulses at low duty cycle and low repetition frequency while keeping the average power about 2 orders of magnitude lower than the peak power. This results in a high plasma density, and high ionization fraction of the sputtered vapor, which allows better control of the film growth by controlling the energy and direction of the deposition species. This is a significant advantage over conventional dc magnetron sputtering where the sputtered vapor consists mainly of neutral species. The HiPIMS discharge is now an established ionized physical vapor deposition technique, which is easily scalable and has been successfully introduced into various industrial applications. The authors give an overview of the development of the HiPIMS discharge, and the underlying mechanisms that dictate the discharge properties. First, an introduction to the magnetron sputtering discharge and its various configurations and modifications is given. Then the development and properties of the high power pulsed power supply are discussed, followed by an overview of the measured plasma parameters in the HiPIMS discharge, the electron energy and density, the ion energy, ion flux and plasma composition, and a discussion on the deposition rate. Finally, some of the models that have been developed to gain understanding of the discharge processes are reviewed, including the phenomenological material pathway model, and the ionization region model.

Ort, förlag, år, upplaga, sidor
2012. Vol. 30, nr 030801
Nationell ämneskategori
Naturvetenskap
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:liu:diva-76304DOI: 10.1116/1.3691832ISI: 000303602800003OAI: oai:DiVA.org:liu-76304DiVA, id: diva2:513595
Anmärkning

funding agencies|Icelandic Research Fund| 072105003 |Swedish Research Council| 621-2008-3222 |COST Action| MP0804 |

Tillgänglig från: 2012-04-03 Skapad: 2012-04-03 Senast uppdaterad: 2017-12-07Bibliografiskt granskad

Open Access i DiVA

fulltext(3200 kB)5034 nedladdningar
Filinformation
Filnamn FULLTEXT01.pdfFilstorlek 3200 kBChecksumma SHA-512
3541b4a7b09ad84670506be11aa6ff92cf09d44a54df6c3ffd57dc87ac555cf8b29d180590a3885df8322c67f15c134adcc6708327d1b360209dec594f0faf98
Typ fulltextMimetyp application/pdf

Övriga länkar

Förlagets fulltext

Sök vidare i DiVA

Av författaren/redaktören
Lundin, DanielHelmersson, Ulf
Av organisationen
Plasma och beläggningsfysikTekniska högskolan
I samma tidskrift
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films
Naturvetenskap

Sök vidare utanför DiVA

GoogleGoogle Scholar
Totalt: 5034 nedladdningar
Antalet nedladdningar är summan av nedladdningar för alla fulltexter. Det kan inkludera t.ex tidigare versioner som nu inte längre är tillgängliga.

doi
urn-nbn

Altmetricpoäng

doi
urn-nbn
Totalt: 849 träffar
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf