Ändra sökning
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Boron impurity at the Si/SiO_{2} interface in SOI wafers and consequences for piezoresistive MEMS devices
Karlstads universitet, Fakulteten för teknik- och naturvetenskap, Avdelningen för fysik och elektroteknik. Karlstads universitet, Fakulteten för teknik- och naturvetenskap, Materialvetenskap.ORCID-id: 0000-0003-1711-5595
Visa övriga samt affilieringar
2009 (Engelska)Ingår i: Journal of Micromechanics and Microengineering, ISSN 0960-1317, E-ISSN 1361-6439, Vol. 19, nr 1, s. 1-6Artikel i tidskrift (Refereegranskat)
Ort, förlag, år, upplaga, sidor
2009. Vol. 19, nr 1, s. 1-6
Nationell ämneskategori
Fysik
Forskningsämne
Fysik
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:kau:diva-9819OAI: oai:DiVA.org:kau-9819DiVA, id: diva2:493326
Tillgänglig från: 2012-02-08 Skapad: 2012-02-08 Senast uppdaterad: 2017-12-07Bibliografiskt granskad

Open Access i DiVA

Fulltext saknas i DiVA

Sök vidare i DiVA

Av författaren/redaktören
Svensson, Krister
Av organisationen
Avdelningen för fysik och elektroteknikMaterialvetenskap
I samma tidskrift
Journal of Micromechanics and Microengineering
Fysik

Sök vidare utanför DiVA

GoogleGoogle Scholar

urn-nbn

Altmetricpoäng

urn-nbn
Totalt: 131 träffar
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf